蚀刻工艺流程示意图
2024-01-04
蚀刻是一种利用化学反应来加工材料表面的工艺,常用于半导体、电子、光学等领域。本文将介绍蚀刻工艺的流程,并附上示意图。 材料准备 1.选择合适的材料 蚀刻工艺适用于许多材料,如金属、半导体、玻璃等。在选择材料时,需要考虑其化学性质和蚀刻效果。 2.清洗材料表面 材料表面需要清洁干净,以便蚀刻液能够充分接触到材料表面。清洗方法包括机械清洗、化学清洗等。 3.涂覆光阻 为了控制蚀刻区域,需要在材料表面涂覆一层光阻。光阻是一种可被光照射的聚合物,能够在蚀刻液中起到保护作用。 图1:材料准备流程示意图